國立交通大學 2019 GASE Formosa+ GX 國際專家工作坊－「繼往開來：建立全球化半導體研發及人才培育基地」

一、 旨揭活動為本校與科技部全球事務與科學發展中心共同舉辦，並邀請國內外半導體元件材料領域著名學者及傑出產業領袖，從產學並進方式落實跨界整合及深化國際研究合作層面探討，分享如何導入國際能量並串聯企業合作，培育出新一代半導體研發創新人才，以持續推升臺灣半導體科技發展之全球優勢，歡迎相關領域人員踴躍參加。
二、 活動相關資訊說明如下：
　　 （一）時間：108年10月25日(星期五)10時至13時
　　 （二）地點：國立交通大學(光復校區)浩然圖書資訊中心B1國際會議廳(新竹市東區大學路1001號)
　　 （三）講者：
　　 １、引言人：程海東 博士/交通大學國際半導體產業學院講座教授
　　 ２、與談人：
　　 （１）任廣禹 博士/香港城市大學學務副校長
　　 （２）孫元成 博士/前台積電副總經理兼技術長
　　 （３）陳冠能 博士/交通大學國際長暨國際半導體產業學院副院長
　　 （四）報名方式：本活動免費入場，自即日起受理報名，有意參與者請逕至線上報名系統登錄(https://forms.gle/cksMZQaHWETT71Wf9)，席位有限額滿為止。
　　 （五）本活動敬備餐點，為響應環保政策，請自行攜帶飲水容器。
三、 如需進一步瞭解資訊，請逕洽本校研發處研發企劃組承辦人郭小姐，連絡電話03-5712121轉分機53255。